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電容器投切專(zhuān)用開(kāi)關(guān)

來(lái)源:希拓電氣(常州)有限公司    日期:2020-09-17    瀏覽量:載入中...

低壓電容補(bǔ)償裝置一般都包含:主開(kāi)關(guān)、熔斷器、投切開(kāi)關(guān)、電容器、電抗器、控制器等,這里面主要的區(qū)別就是投切開(kāi)關(guān)及電抗器的選擇;下面先介紹幾種投切開(kāi)關(guān),

低壓電容補(bǔ)償裝置的投切開(kāi)關(guān)一般有如下幾種:接觸器、晶閘管(也叫作電子開(kāi)關(guān))、復(fù)合開(kāi)關(guān)、同步開(kāi)關(guān)。

隨著電力電子器件的發(fā)展和普及,人們研發(fā)出由可控硅為核心的晶閘管開(kāi)關(guān)。其原理為通過(guò)電壓、電流過(guò)零檢測(cè)控制,保證在電壓零區(qū)附近投入電容器組,從而避免了合閘涌流的產(chǎn)生,而切斷又在電流過(guò)零時(shí)完成,避免了暫態(tài)過(guò)電壓的出現(xiàn),這就從功能上符合了電容器的過(guò)零投切的要求;

另外由于可控硅的觸發(fā)次數(shù)沒(méi)有限制,可以實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)動(dòng)態(tài)補(bǔ)償(響應(yīng)時(shí)間在毫秒級(jí)),因此適用于電容器的頻繁投切,滿足了頻繁變化的負(fù)荷情況下的投切要求,相對(duì)于交流接觸器有了質(zhì)的飛躍。

晶閘管投切開(kāi)關(guān)


STT標(biāo)準(zhǔn)型晶閘管投切開(kāi)關(guān)技術(shù)源自德國(guó),我司在充分消化吸收德國(guó)技術(shù)和先進(jìn)制造工藝的基礎(chǔ)上,研制出了擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的新一代晶閘管投切模塊。模塊主要由雙向晶閘管,觸發(fā)電路,吸收電路,保護(hù)電路,智能型散熱片組成。自主專(zhuān)利技術(shù)保證電壓過(guò)零觸發(fā),電流過(guò)零斷開(kāi),真正實(shí)現(xiàn)投切無(wú)涌流,跟隨速度快,有效補(bǔ)償沖擊性負(fù)荷,平均響應(yīng)時(shí)間小于15ms,很好地取代傳統(tǒng)投切裝置,成為電容器投切專(zhuān)用開(kāi)關(guān)。


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